紅外焦平面陣列探測(cè)器對(duì)入射的紅外能力進(jìn)行積分，然后產(chǎn)生視頻圖像，經(jīng)過調(diào)解后被提供給視頻顯示器，以供人觀察。焦平面陣列每個(gè)像元的輸出是一種模擬信號(hào)，它是與積分時(shí)間內(nèi)入射在該元件上的紅外能力成正比的。但是由于制造工藝和使用環(huán)境的影響，即使對(duì)溫度均勻的背景，焦平面背景中所有像元產(chǎn)生的輸出信號(hào)也是不一致的，即紅外焦平面陣列器件的非均勻性。為了滿足成像系統(tǒng)的使用要求，需要對(duì)紅外焦平面陣列探測(cè)器進(jìn)行非均勻性校正。

  從生產(chǎn)工藝而言，單純從提高焦平面陣列質(zhì)量的角度來降低其非均勻性，不僅困難而且造價(jià)昂貴。因此，紅外探測(cè)器廠家通過校正算法減小非均勻性對(duì)紅外焦平面陣列成像質(zhì)量的影響，提高成像制冷，不僅是必須的，同時(shí)具有很高的經(jīng)濟(jì)價(jià)值和應(yīng)用價(jià)值。

  目前，對(duì)紅外圖像質(zhì)量的改善，一般是根據(jù)紅外焦平面陣列對(duì)于溫度響應(yīng)的不一致性，采用非均勻性校正的方法，提高紅外圖像的質(zhì)量。主要有兩類校正方法：

  基于紅外參考輻射源的非均勻性校正算法和基于場(chǎng)景的自適應(yīng)校正方法。

  在實(shí)際應(yīng)用中，普遍采用的是基于紅外參考輻射源定標(biāo)的校正方法。但是，采用參考輻射源定標(biāo)的校正方法校正的紅外圖像，因紅外焦平面陣列器件由于長(zhǎng)時(shí)間的工作，受到時(shí)間、環(huán)境等因素的影響，紅外圖像質(zhì)量逐漸下降，出現(xiàn)類似細(xì)胞狀和塊狀的斑紋，影響力紅外圖像的質(zhì)量。所以，需要在基于參考輻射源定標(biāo)的校正方法的基礎(chǔ)上，對(duì)于紅外圖像的質(zhì)量進(jìn)行改善。